台积电2nm工艺进入研发阶段:升级GAA晶体管、改进EUV效率-aj数码网

台积电2nm工艺进入研发阶段:升级GAA晶体管、改进EUV效率

已有 29 人阅读此文 - - 分类:IT资讯 - 作者:aj数码网

  做为全球最大最先进的晶圆代工厂,台积电在7nm、5nm节点上领先三星等对手,明年面还会量产3nm工艺,接下来则是2nm工艺。

  台积电计划未来三年投资1000亿美元,其中先进工艺花费的资金最多,2nm工艺也是前所未有的新工艺,台积电去年称2nm工艺取得了重大进展,进度比预期的要好。

  实际上台积电的2nm工艺没有宣传的那么夸张,此前只是技术探索阶段,寻找到了可行的技术路径。

  现在2nm工艺才算是进入了研发阶段,重点转向了测试载具设计、光罩制作及硅试产等方向。

  根据台积电的说法,2nm工艺节点上,他们也会放弃FinFET晶体管结构,转向GAA环绕栅极结构,此前三星更为激进,在3nm节点就会弃用GAA晶体管,不过这两家的GAA晶体管结构也不会一样,孰优孰劣还没定论。

  在2nm节点,光刻工艺更加重要,EUV光刻是少不了的,但此前的EUV工艺还存在不少问题,台积电的2nm节点也会重点改进EUV工艺,提高光刻中的质量及效率。

  至于量产时间,台积电的2nm工厂现在还在起步阶段,此前消息称是2023年试产2nm工艺,2024年量产。

台积电2nm工艺进入研发阶段:升级GAA晶体管、改进EUV效率

特别提醒:本网信息来自于互联网,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点。其原创性以及文中陈述文字和内容未经本站证实,对本文以及其中全部或者部分内容、文字的真实性、完整性、及时性本站不作任何保证或承诺,并请自行核实相关内容。本站不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如若本网有任何内容侵犯您的权益,请及时联系我们,本站将会在24小时内处理完毕。

本文出自aj数码网,未经允许不得转载:电脑系统_电脑操作系统-aj数码操作系统教程网 » 台积电2nm工艺进入研发阶段:升级GAA晶体管、改进EUV效率
0
相关文章